• صفحه اصلی
  • مرور
    • شماره جاری
    • بر اساس شماره‌های نشریه
    • بر اساس نویسندگان
    • بر اساس موضوعات
    • نمایه نویسندگان
    • نمایه کلیدواژه ها
  • اطلاعات نشریه
    • درباره نشریه
    • اهداف و چشم انداز
    • اعضای هیات تحریریه
    • اصول اخلاقی انتشار مقاله
    • بانک ها و نمایه نامه ها
    • پیوندهای مفید
    • پرسش‌های متداول
    • فرایند پذیرش مقالات
    • اطلاعات آماری نشریه
    • اخبار و اعلانات
  • راهنمای نویسندگان
  • ارسال مقاله
  • داوران
  • تماس با ما
  • ورود به سامانه
    • ورود به سامانه
    • ثبت نام
  • English

رشد لایه سیلیکون به روش CVD

نوع مقاله : مقاله پژوهشی

نویسندگان

  • رحیم یزدانی راد
  • ماندانا تقی پور شرقی

نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر
دوره 16، شماره 2
صفحه 284-290

فایل ها

  • XML
  • اصل مقاله 1.22 M

هم رسانی

ارجاع به این مقاله

  • RIS
  • EndNote
  • Mendeley
  • BibTeX
  • APA
  • MLA
  • HARVARD
  • CHICAGO
  • VANCOUVER

آمار

  • تعداد مشاهده مقاله: 456
  • تعداد دریافت فایل اصل مقاله: 279

APA

یزدانی راد, رحیم و تقی پور شرقی, ماندانا . (1374). رشد لایه سیلیکون به روش CVD. نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر, 16(2), 284-290.

MLA

یزدانی راد, رحیم , و تقی پور شرقی, ماندانا . "رشد لایه سیلیکون به روش CVD", نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر, 16, 2, 1374, 284-290.

HARVARD

یزدانی راد, رحیم, تقی پور شرقی, ماندانا. (1374). 'رشد لایه سیلیکون به روش CVD', نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر, 16(2), pp. 284-290.

CHICAGO

رحیم یزدانی راد و ماندانا تقی پور شرقی, "رشد لایه سیلیکون به روش CVD," نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر, 16 2 (1374): 284-290,

VANCOUVER

یزدانی راد, رحیم, تقی پور شرقی, ماندانا. رشد لایه سیلیکون به روش CVD. نشریه علمی پژوهشی امیرکبیر, 1374; 16(2): 284-290.

دسترسی سریع

  • صفحه اصلی
  • درباره نشریه
  • اعضای هیات تحریریه
  • ارسال مقاله
  • تماس با ما
  • نقشه سایت

آخرین اخبار

اشتراک خبرنامه

برای دریافت اخبار و اطلاعیه های مهم نشریه در خبرنامه نشریه مشترک شوید.

  • © سامانه مدیریت نشریات علمی. طراحی و پیاده سازی از سیناوب