Document Type : Original Article
Authors
یزدانی راد, Ø., & تقی پور شرقی, Ù. (1995). رشد لایه سیلیکون به روش CVD. Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), 284-290.
رØیم یزدانی راد; ماندانا تقی پور شرقی. "رشد لایه سیلیکون به روش CVD". Amirkabir Journal of Science and Research, 16, 2, 1995, 284-290.
یزدانی راد, Ø., تقی پور شرقی, Ù. (1995). 'رشد لایه سیلیکون به روش CVD', Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), pp. 284-290.
یزدانی راد, Ø., تقی پور شرقی, Ù. رشد لایه سیلیکون به روش CVD. Amirkabir Journal of Science and Research, 1995; 16(2): 284-290.
)