Document Type : Original Article
Authors
یزدانی راد, ر. and تقی پور شرقی, م. (1995). رشد لایه سیلیکون به روش CVD. Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), 284-290.
یزدانی راد, ر. , and تقی پور شرقی, م. . "رشد لایه سیلیکون به روش CVD", Amirkabir Journal of Science and Research, 16, 2, 1995, 284-290.
یزدانی راد, ر., تقی پور شرقی, م. (1995). 'رشد لایه سیلیکون به روش CVD', Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), pp. 284-290.
ر. یزدانی راد and م. تقی پور شرقی, "رشد لایه سیلیکون به روش CVD," Amirkabir Journal of Science and Research, 16 2 (1995): 284-290,
یزدانی راد, ر., تقی پور شرقی, م. رشد لایه سیلیکون به روش CVD. Amirkabir Journal of Science and Research, 1995; 16(2): 284-290.
)