Document Type : Original Article
یزدانی راد,ر and تقی پور شرقی,م . (1995). رشد لایه سیلیکون به روش CVD. Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), 284-290.
یزدانی راد,ر , and تقی پور شرقی,م . "رشد لایه سیلیکون به روش CVD", Amirkabir Journal of Science and Research, 16, 2, 1995, 284-290.
یزدانی راد ر, تقی پور شرقی م. (1995). 'رشد لایه سیلیکون به روش CVD', Amirkabir Journal of Science and Research, 16(2), pp. 284-290.
ر یزدانی راد and م تقی پور شرقی, "رشد لایه سیلیکون به روش CVD," Amirkabir Journal of Science and Research, 16 2 (1995): 284-290,
یزدانی راد ر, تقی پور شرقی م. رشد لایه سیلیکون به روش CVD. AJSR. 1995;16(2):284-290 (In Persian).
